۳ نتیجه برای کاتالیزور
صدیقه واعظی فر، حسین فقیهیان، مهدی کمالی،
دوره ۳۰، شماره ۱ - ( ۴-۱۳۹۰ )
چکیده
در این مطالعه، کاتالیزور صنعتی با نام تجاری DP۸۰۳ مورد استفاده در صنایع پتروشیمی به منظور هیدروژن‌زدایی ایزوبوتان به ایزوبوتن، مشخصه‌یابی شد. براساس نتایج حاصل و مطالعات صورت گرفته، پایه زئولیتی Y برای ساخت کاتالیزوری با کارایی بالاتر، مناسب تشخیص داده شد و پس از سنتز کاتالیزور با استفاده از منبع پلاتین (هگزاکلروپلاتینیک اسید) و دو منبع قلع (کلرید تری بوتیل قلع و کلرید قلع دوآبه) بر روی این پایه زئولیتی، این کاتالیزورها در فرایند هیدروژن‌زدایی از ایزوبوتان در راکتور ویژه‌ای مورد استفاده قرار گرفتند. برای شناسایی و تشخیص ترکیب کاتالیزور صنعتی و کاتالیزورهای ساخته شده از روشهای SEM, FT-IR, TG/DTG, XRD, XRF استفاده شد و هم‌چنین تحلیل مرطوب نمونه تحت آزمایشهای شیمیایی مختلف مورد ارزیابی قرارگرفت.
آرش عظیمی دستگردی، فخرالدین اشرفی زاده، محمد رضا طرقی نژاد، فرهاد شهریاری، حمید زهرایی،
دوره ۳۰، شماره ۲ - ( ۱۰-۱۳۹۰ )
چکیده
در این مقاله نقاط فاقد پوشش ایجاد شده روی ورق گالوانیزه به عنوان یک عیب رایج مورد مشخصه یابی متالورژیکی قرار گرفته و تأثیر آن بر مقاومت خوردگی و خواص مکانیکی ورق ارزیابی شده است. کیفیت سطح پوشش و مشخصات ریزساختاری آن به وسیله میکروسکوپ الکترونی مجهز به سامانه تحلیل شیمیایی بررسی شد. یافته های تحقیق نشان داد که دلیل عمده بروز عیب، تر نشدن کامل سطح فولاد توسط مذاب روی است که این خود به‌دلیل تمیزکاری ناکافی ورق پایه، عملیات حرارتی نامناسب و یا عدم کنترل ترکیب شیمیایی حمام اتفاق می افتد. رفتار خوردگی با استفاده از آزمون پاشش نمک و خواص کششی با استفاده از آزمون کشش تعیین شد. نتایج نشان داد که زمان رسیدن به شوره قرمز نمونه های دارای عیب در مقایسه با نمونه های سالم بسیار سریعتر و در بازه ای بین ۲۰ تا ۱۲۰ ساعت متغیر است. آزمون کشش نمونه های دارای فاقد پوشش در مقایسه با نمونه های سالم تغییر چندانی در خواص مکانیکی این ورقها نشان نداد.
آرمین سلماسی، اسکندر کشاورز علمداری،
دوره ۳۱، شماره ۲ - ( ۱۰-۱۳۹۱ )
چکیده
بررسی روش ساخت و کیفیت لایههای نازک نیترید سیلیکون آمورف رسوب داده شده به روش لایه‌نشانی شیمیایی از فاز بخار در فشار پایین۱ از مخلوط رادیکالهای آزاد تشکیل شده از سیستم گازی نیتروژن، آمونیاک و تری‌کلرو‌سیلان هدف این مقاله است. تبدیل گازهای اولیه به رادیکالهای آزاد گازی با عبور دادن آنها از روی کاتالیزور سرامیکی پلاتین ایریدیوم آلومینا در دمای ۶۰۰ درجه سانتیگراد انجام شد. تغییرات سینتیک رشد لایه نسبت به تغییرات فشار کل سیستم، نسبت نرخ شارش آمونیاک به تری‌کلرو‌سیلان و دما بررسی شد. توپوگرافی و ترکیب شیمیایی لایه نازک توسط بیضیسنجی، طیف‌نگاری فوتو‌الکترون اشعه ایکس، طیف‌نگاری فوتو‌الکترون اشعه ایکس، طیف‌نگاری تبدیل فوریه مادون قرمز، میکروسکوپ نیروی اتمی و عمق‌نگاری با الکترون اوژه مورد بررسی قرار گرفت. بررسی نتایج نشان داد که در محدوده دمایی ۷۳۰ تا ۸۳۰ درجه سانتیگراد سینتیک رشد لایه نازک تابعی آرنیوسی با انرژی فعالسازی ۳/۱۶۶ کیلوژول بر مول است. آلودگی هیدروژن در لایه نازک نیترید سیلیکون آمورف ۰۵/۱ درصد اتمی اندازهگیری شد. این مقدار ۱۷ برابر کمتر از آلودگی هیدروژن در لایههای حاصل از روش لایه‌نشانی شیمیایی از فاز بخار به کمک پلاسما۲ و ۴/۳ برابر کمتر از مقدار آلودگی اندازهگیری شده در لایههای حاصل از لایه‌نشانی شیمیایی از فاز بخار در فشار پایین با استفاده از سیستم گازی سیلان و آمونیاک یا سیستم گازی دی‌کلروسیلان و آمونیاک است. تصاویر میکروسکوپ نیروی اتمی نشان داد که توپوگرافی سطحی لایه حاصل هموار و همگن است.
